| 品牌 | coilcraft | 型号 | 7M2-123 |
| 材料 | 铜心电感线圈 | 电感线圈绕制方法 | 多层式线圈 |
| 用途 | 振荡线圈 | | |
摘要： 应用材料公司在Applied Centura? RP Epi系统设备上新开发了一套NMOS晶体管应用技术，继续保持其在外延技术方面十年来的领先地位。该应用技术的开发符合行业在20纳米节点时将外延沉积从PMOS(P型金属氧化物半导体)向NMOS(N型金属氧化物半导体)晶体管延伸的趋势，推动芯片制造商打造出更快的终端，提供下一代移动计算能力。
关键字： 硅系统事业部晶体管与金属化产品副总裁Steve Ghanayem表示，“除了传统的PMOS 外延以外，通过实施NMOS外延工艺，我们能帮助晶圆代工客户进一步增强用于下一代器件的晶体管性能。”
自90纳米终端节点以来，具有即时掺杂性能的应变选择性外延膜已经改善了PMOS晶体管的迁移率，降低了电阻，从而提高了晶体管的速度。在NMOS 晶体管中采用选择性外延，具有类似的提升作用，能够增强总体芯片的性能。通过将这种技术用于这两类晶体管，应用材料公司推动了行业发展，以满足日益增长的多功能移动产品更快和更高计算能力的需求。这种性能的提升有助于客户实现更先进的功能，如提升多任务和更高品质的图形以及影像处理能力等。
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